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PECVD de TEOS SiO2 VCSEL fabrication de nitrure de silicium et de dioxyde de silicium RF plasma 1000C tube four de Xinyu professionnel
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Attributs clés
Spécification de l'industrie de base.
Garantie
Un an
Autres attributs
Point d'origine
Henan, China
Classification
Equipement de chauffage pour laboratoires
Support personnalisé
OEM, ODM, OBM
Marque nom
XINKYO
Numéro de Type
XY-1200PECVD
Nom du produit
Plasma Enhanced Dépôt Chimique en Phase Vapeur four
Type
1200C PECVD tube four
Max. Température
1200 ℃
Température de fonctionnement
<= 1100 ℃
Tube matériel
Haute Pureté Tube De Quartz
Tension
AC 220V 50/60Hz
Max vide
10-3pa
Contrôle de la température
30 Segments De Commande Programmable
Tube diamter
40mm,60mm,80mm,100mm ou comme vos besoins
Système de gaz
Trois ou quatre canaux de gaz, d'oxygène, d'azote, argon loi.
Emballage et livraison
Détails d'emballage
Papier plastique à l'intérieur, rempli de Polyfoam, boîte en bois à l'extérieur.
Port
Shanghai or any Port of China
Capacité d'approvisionnement
Capacité d'approvisionnement
200 Ensemble/Ensembles per Month
Délai
| Quantité (jeu) | 1 - 2 | > 2 |
| Durée estimée (jours) | 35 | À négocier |
Personnalisation
Logo personnalisé
Commande min.: 1
Emballage personnalisé
Commande min.: 1
Personnalisation graphique
Commande min.: 1
Pour plus de détails de personnalisation, envoyez un message au fournisseur
Description des produits par le fournisseur
Quantité minimale de commande 1 jeu
254 508 359 ₫ - 509 042 171 ₫Variantes
Total des options :
Expédition
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Protections pour ce produit
Protections pour ce produit
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