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PECVD de TEOS SiO2 VCSEL fabrication de nitrure de silicium et de dioxyde de silicium RF plasma 1000C four à tubes de STA professionnel
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Sta Refractory (zhengzhou) Co., Ltd.
12 yrs
CN
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Attributs clés
Autres attributs
Point d'origine
Henan, China
Condition
Nouveau
Type
Four de résistance
Vidéo sortant d'inspection
Fourni
Machines Rapport D'essai
Fourni
Marketing Type
Produit chaud 2024
Garantie des éléments de base
1 AN
Composants de base
Système de livraison de gaz, Chambre de réacteur, Source d'énergie, Système de vide, Système d'échappement
Poids (T)
0,2 T
Puissance (kW)
Sur demande
Garantie
1 AN
Clé Vente Points
Longue Durée de Vie
Industries applicables
Semiconducteurs, préparation de la plaquette de silicium
Showroom Emplacement
Égypte, Turquie, Royaume-Uni, Italie, Viet Nam, Philippines, Pérou, Inde, Russie, Espagne, Thaïlande, Roumanie, Bangladesh
Utilisation
Four de traitement thermique
Marque nom
STA
Tension
220/380V
Dimension (L*W*H)
Sur demande
Max température
1200 ℃
Température de travail
1100 ℃
Précision de la température
0 ~ 20 deg C / min
Taux de refroidissement
0 ~ 10C / min
Éléments chauffants
Élément chauffant de résistance
Thermocouple
Type K
Caractéristique de sécurité
Système de verrouillage de sécurité
Protection contre la surchauffe
Protection contre les pannes de courant
Application
Film de graphène diamant
Emballage et livraison
Unités de vente :
Article unique
Taille du paquet individuel :
40X15X12 cm
Poids brut par article :
1.000 kg
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Délai
Quantité (jeu)
1 - 5
> 5
Durée estimée (jours)
30
À négocier
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Commande min.: 1
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Quantité
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