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Un équipement de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma est utilisé pour déposer divers films minces sur différents matériaux de substrat
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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.
6 yrs
CN
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Attributs clés
Autres attributs
Type
Machine de revêtement
Type de Machine
CVD
Vidéo sortant d'inspection
Fourni
Machines Rapport D'essai
Non Disponible
Marketing Type
Nouveau produit 2024
Garantie des éléments de base
1 AN
Composants de base
PLC, Pompe
Point d'origine
Henan, China
Garantie
1 AN
Clé Vente Points
Concurrentiel Prix
Industries applicables
Autres
Showroom Emplacement
Aucun
Poids (KG)
70
Substrat
Acier
Condition
Nouveau
Enduit
Métallisation sous vide
Marque nom
TN
Tension
220 V
Puissance (W)
500 W
Type de Machine
Équipement de revêtement
Nom du produit
PECVD
Mots-clés
Dépôt chimique en phase vapeur
Application
Film déposé
Alimentation électrique
0 ~ 500 W
Matériel de chambre
SS304
Substrat de revêtement
Si
Mode de contrôle
PID
Technologie
CVD
Chambre à vide
Diam 245mm * 300mm
Service après-vente fourni
1 Année
Emballage et livraison
Unités de vente :
Article unique
Taille du paquet individuel :
80X50X60 cm
Poids brut par article :
70.000 kg
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Délai
Quantité (jeu)
1 - 2
> 2
Durée estimée (jours)
45
À négocier
Personnalisation
Logo personnalisé
Commande min.: 3
Emballage personnalisé
Commande min.: 3
Personnalisation graphique
Commande min.: 3
Pour plus de détails de personnalisation,
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Description des produits par le fournisseur
1 - 1 jeu
3 319 813 JP¥
>= 2 jeu
3 256 276 JP¥
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