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Applicateurs de pulvérisation magnétron à cible unique sous vide poussé de table pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire

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Attributs clés

Autres attributs

Type
lab vacuum PVD coating
Type de Machine
Plasma sputtering coater
Vidéo sortant d'inspection
Fourni
Machines Rapport D'essai
Non Disponible
Marketing Type
Hot Product 2024
Garantie des éléments de base
1 AN
Composants de base
PLC, Pompe
Point d'origine
Henan, China
Garantie
1 AN
Clé Vente Points
Concurrentiel Prix
Industries applicables
Usine de fabrication
Showroom Emplacement
Aucun
Poids (KG)
30
Substrat
Acier
Condition
Nouveau
Enduit
Métallisation sous vide
Marque nom
TN
Tension
AC 220V,50Hz
Puissance (W)
1.5kW
Dimension (L*W*H)
500mm*320mm*470mm
Type de Machine
Équipement de revêtement
Product name
Single target magnetron sputtering coating instrument
Keywords
Magnetron sputtering coating
Technology
Sputtering
Application
metal:gold, silver and copper coating
Rotatable sample stage
diam 100mm
Rotate speed
1-20rpm adjustable
target head
2"*1
Vacuum chamber
diam254*300 mm
Vacuum pump
Molecular pump set
Ultimate vacuum
1.0E-4Pa

Emballage et livraison

Unités de vente :
Article unique
Taille du paquet individuel :
55X35X45 cm
Poids brut par article :
50.000 kg

Délai

Quantité (jeu)1 - 2 > 2
Durée estimée (jours)30À négocier

Description des produits par le fournisseur

1 - 1 jeu
445 677 855 IDR
>= 2 jeu
439 050 675 IDR

Variantes

Total des options :

Expédition

Les solutions d'expédition pour la quantité sélectionnée sont actuellement indisponibles

Avantages de l’adhésion

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