Dernière mise à jour: 2026-08-19
Pecvd Déposition
(314+ produits disponibles)
Four tubulaire PECVD pour la déposition de films minces | Équipement de recherche scientifique spécialisé pour les universités
26 173,14-436 219 €
quantité minimum: 1 unité
1
CN
Films minces personnalisés en oxyde de silicium SiO2 et en nitrure de silicium Si3N4, revêtus par dépôt chimique par vapeur (PECVD/LPCVD)
8,73-157,04 €
quantité minimum: 25 pièces
1CN
Plasma vapeur améliorée dépôt pecvd pour diamant film de graphène
8 724,38 €
quantité minimum: 1 jeu
7CN
Système de dépôt chimique par évaporation amélioré par le plasma, four PECVD 1200°C utilisé pour la croissance du graphène
697,96-2 783,08 €
quantité minimum: 1 jeu
8CN
Machine de revêtement sous vide PECVD DLC pour composants automobiles HUASHENG, pour une résistance à l'usure et une faible friction
348 975,20-436 219 €
quantité minimum: 1 pièce
1CN
Dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) pour la préparation de films hydrophobes
20 066,08 €
quantité minimum: 1 jeu
12CN
Équipement de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma PECVD/processus PECVD à haute température
8 724 379,13 €
quantité minimum: 1 pièce
11CN
Four PECVD à haute vitesse avec dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma (PVD) pour graphène CVD
3 084,95 €
quantité minimum: 1 jeu
14CN
Four à tubes CVD amélioré au plasma (PECVD) pour la déposition de SiOx et de SiNx sur les cellules solaires en silicium
1 744,88-15 703,89 €
quantité minimum: 1 jeu
9CN
Système de dépôt chimique par évaporation amélioré par le plasma sous vide poussé (type CCP) - VTC-PECVD
6 805,02-65 432,85 €
quantité minimum: 1 pièce
2CN
Alimentation électrique pour la déposition de films PECVD de 20 kW pour les cellules photovoltaïques
4 187,71-5 234,63 €
quantité minimum: 5 unités
6CN
Four à tube PECVD, dépôt chimique par vapeur, plasma CVD, machine à diamant, équipement de chauffage de laboratoire
8 723,51-17 447,89 €
quantité minimum: 1 jeu
6CN
Four de laboratoire PECVD-CVD avec système de dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma
872,44-2 617,32 €
quantité minimum: 1 jeu
1
HK
Four à tube de haute qualité, 1200C Plasma arc-en-ciel pour la vue de la vapeur chimique, nouveauté, 2020
8 723,51-17 447,89 €
quantité minimum: 1 jeu
17CN
Offre Spéciale PECVD Zone multi-température Plasma amélioré dépôt chimique en phase vapeur Tube four laboratoire équipement de chauffage de laboratoire
872,44-3 489,76 €
quantité minimum: 1 jeu
10CN
Système PECVD haute température au meilleur prix pour le dépôt en phase vapeur chimique amélioré par nanotube de carbone/plasma
2 268,34-6 107,07 €
quantité minimum: 1 jeu
17CNMachine de dépôt PECVD de nitrure de silicium sur plaquettes de 8 pouces
87 243,80-95 968,18 €
quantité minimum: 1 jeu
6CNFour rotatif PECVD OTF-1200X-S-II-PECVD 1100C - Système CVD amélioré par le plasma pour le dépôt de films minces
2 617,32-14 831,45 €
quantité minimum: 1 jeu
1CNSystème de dépôt de films minces PECVD pour le traitement des plaquettes de silicium
87 243,80-95 968,18 €
quantité minimum: 1 jeu
1
INSystème de dépôt de films minces PECVD pour le traitement des plaquettes de silicium
87 243,80-95 968,18 €
quantité minimum: 1 jeu
6CNMachine de dépôt PECVD de nitrure de silicium sur plaquettes de 8 pouces
87 243,80-95 968,18 €
quantité minimum: 1 jeu
10CNMachine de four PECVD à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma HT Four à tube CVD en graphène
4 003,62 €
quantité minimum: 1 jeu
9CNFour à tubes PECVD pour la déposition de films minces par plasma sous vide
87 243,80-261 731,40 €
quantité minimum: 1 unité
1CNSystème de dépôt chimique par vapeur amélioré par plasma à vide élevé (type CCP) - VTC-PECVD
6 543,29-65 432,85 €
quantité minimum: 1 jeu
4CNGravure ionique réactive pecvd (dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma)
20 066,08 €
quantité minimum: 1 jeu
12CNUsine de plaquettes Si3N4 : Service personnalisé de dépôt PECVD/LPCVD et de découpe de précision
50,61-151,81 €
quantité minimum: 1 pièce
1CNFour à graphène par dépôt chimique par vapeur amélioré par plasma (PECVD) / CVD / Machine de four PECVD à haute vitesse
4 362,19-17 448,76 €
quantité minimum: 1 jeu
14CNMachine de revêtement sous vide PVD PECVD ALD, système de dépôt par évaporation physique pour métal, verre, céramique, plastique
69 795,04-261 731,40 €
quantité minimum: 1 jeu
19CNSystème de position de la vapeur chimique, doublure Plasma, pbd, pour système de croissance de graphène 1200C
5 234,63-6 979,51 €
quantité minimum: 1 jeu
8CN1200c max. four à tube pecvd équipement de dépôt chimique organique en phase vapeur four à tube Cvd à quartz avec système Pecvd rotatif
6 979,51-8 724,38 €
quantité minimum: 1 jeu
10CNDépôt chimique par vapeur amélioré par plasma 1200°C Max. Système de four PECVD avec four tubulaire à deux zones
8 724,38-21 810,95 €
quantité minimum: 1 jeu
9CNFour de dépôt de films minces PECVD 1000C, directement de l'usine Xinyu
4 362,19-17 448,76 €
quantité minimum: 1 jeu
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