Appellation

Machine d'enduit multifonctionnelle de série de TSU

type

Un type

B

C

taille de chambre

Φ800mm×H800mm

Φ1000mm×H1000mm

Φ1200mm×H1200mm

Alimentation d'énergie

3000W impulsion bipolaire generator*2

Multi-Arc target*2 de la puissance 4000W

cible électromagnétique *1 de puissance de la puissance *1 de l'évaporation 1000W

4000W impulsion bipolaire generator*2

Multi-Arc target*4 de la puissance 4000W

puissance *1 de l'évaporation 2000W

Cible électromagnétique *1 de puissance

5000W impulsion bipolaire generator*2

 4000W puissance *1 d'évaporation du Multi-Arc target*8 3000W

Cible électromagnétique *1 de puissance

Structure de cible de pulvérisation

cible magnétique permanente *1+Φ60mmElectromagnetic target*1+ targets*2 rectangulaire +Φ65mmMulti-Arc target*2 de l'évaporation electrodes*2 +Φ50.8mm de refroidissement par l'eau

Multi-Arc rectangulaire électromagnétique magnétique permanent target*4 de la cible *1+Φ60mm target*1+ targets*2+Φ65mm de l'évaporation electrodes*2+Φ50.8mm de refroidissement par l'eau

Multi-Arc rectangulaire électromagnétique magnétique permanent target*8 de la cible *1+Φ60mm target*1+ targets*2+Φ65mm de l'évaporation electrodes*2+Φ50.8mm de refroidissement par l'eau

Puits à dépression

La verticale Pré-ouvrent des structures, la rotation modePublic de rotation d'opération de backWorkpiece de systèmes de ventilation, 0~20rpm, gamme composée measurementDigital commandée réglable de mesure de mesure de vide de CVTVacuum d'atmosphérique à 10-5Pa

Méthode d'enduit

Dépôt +Evaporation de plasma de l'évaporation +multi-arc de pulvérisation de magnétron

Tension de polarisation négative

0-1000V 12KW20KW

Mode d'enduit

Metal les films, le film de réaction, le film à bande perforée magnétique et multicouche, le film diélectrique, le film organique, l'enduit de poudre, etc.

Norme d'objet

Refroidissement par l'eau, chauffage, révolution disponible et rotation capables prélever le moniteur d'épaisseur.

Pression de culot

8×10-5Pa ou 8×10-4Pa

Composants de système de vide

pump+ moléculaire enracine la pompe + pompe mécanique ou pompe de diffusion + pompe de racines + pompe mécanique

Vitesse de pompage

inférieur ou égal à 20min de l'air à 10-3Pa

uniformité de membrane

≤±5%

Cible et puissance de cible

Utilisation 30%~60% de cible

Température de cuisson d'objet

Température ambiante commandée réglable 200 au ° C (contrôle de température de PID)

Commande de vide

Un type est manuel, AVANT JÉSUS CHRIST type est contrôle automatique

commande de gaz

Trois ensembles de système de contrôle de gaz, ± 0.1sccm d'exactitude du contrôle de flux de gaz 5L/3L/2L.

protection

L'équipement est conduit, sous le tassement, écoulement, dispositifs de protection de surtension

power≥20KW, area9m2

Dispositifs d'option

La source d'ions de Hall de dispositifs d'épaisseur d'oscillateur de quartz, et les machines d'eau en circulation pompent, PLC, commande de PC, l'anti-blanchissage de la pulvérisation