Méthodes d'enduit

Magnétron de rf pulvérisant/pulvérisation bipolaire asymétrique de magnétron d'impulsion

Types de film

Metal les films, films diélectriques, films de réaction, films d'oxyde

Alimentation d'énergie

alimentation d'énergie d'impulsion ;
Alimentation d'énergie de rf

Structure de la cible de pulvérisation

cible magnétique permanente
cible magnétique de resever

Puits à dépression

Pré-ouvrez les structures verticales, systèmes de pompage de Postposition

Le vide atteint le plus élevé

Pompe moléculaire (PA 6.6×10-5) ; Pompe de diffusion (PA 6.6×10-4)

Pompes de vide

Pompe moléculaire + pompe mécanique

Vitesse de pompage

Minute time≤20 de pompage, de pression atmosphérique à 10-3Pa

Uniformité de film

Les fluctuations de l'épaisseur de film sont moins de 5%

Mode d'opération de l'objet

Révolution, 0 ? changement stepless de vitesse de 20 t/mn (réglable et contrôlable)

Mesure de vide

Mesures de vide composées de Digitals

Commande de vide

Commande manuelle disponible de /PLC/PLC +HMI

Contrôle de flux de gaz

Contrôle de flux de gaz de 2 ou 3 routes

Protection

L'alarme et la protection automatique fonctionnent pour l'épuisement de l'eau, écoulement anormal, au-dessus de circuler courant, sur la tension, et l'arrêt électrique, etc.

Paramètres de base

Power≥12KW ; Secteur servi : 10m2

Dispositifs facultatifs

Moniteur d'épaisseur de film d'oscillateur de quartz, source d'ions de Hall, polarisation moindre, refroidissement par l'eau et réutilisation de la machine