Type

PECVD-200

PECVD-450

PECVD-650

Dimension de la chambre de dépôt

Φ230×H300 millimètre

Φ450×H400 millimètre

Φ650×H600 millimètre

Dimension de la plate-forme de substrat

Φ100×10 millimètre

Φ120×12 millimètre

Φ150×15 millimètre

Taux de rotation de la plate-forme de substrat

0-20 t/mn (réglables)

Alimentation d'énergie

Alimentation d'énergie de rf

Pompes de vide

Pompe moléculaire + pompe mécanique

Le vide atteint le plus élevé

6. PA 6 ×10-5

Types de film

Diélectrique/semi-conducteur/de film métallique

Contrôle de flux de gaz

3-4 contrôle de flux de gaz de route (facultatif)

Puits à dépression

Pré-ouvrez les structures verticales, systèmes de pompage de Sous-position

Vitesse de pompage

Minute time≤30 de pompage, de pression atmosphérique à 10-3Pa

Uniformité de film

Les fluctuations de l'épaisseur de film sont moins de 5%

Mesure de vide

Mesures de vide composées de Digitals, mesure de vide s'étendant de la pression atmosphérique à la PA 10-6

Commande de vide

Manuel disponible/commande de PLC/PLC+HMI (facultative)

Protection

L'alarme et la protection automatique fonctionnent pour l'épuisement de l'eau, écoulement anormal, au-dessus de circuler courant, sur la tension, et l'arrêt électrique, etc.

Paramètres de base

Kilowatt Power≥10 ; Secteur servi : 4-20 m2 ; Poids 100-800 kilogrammes

Dispositifs facultatifs

Refroidissement par l'eau et réutilisation de la machine, analyseur de gaz résiduel